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国产套刻8nm光刻机引争议 部分关键指标不如ASML 2006年推出的干式DUV光刻机XT 1450，所以总体差距在15—20年
日前，工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下简称“目录”）中显示，中国已攻克氟化氩光刻机，其中该目录中，公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm指标引发...
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标签：光刻机
坎坷de卖菜仔
光刻机的自嗨与无知，根源在于产业机制
最近的一个现象让我细思极恐。先是前天我刷视频号的时候，微信推送给我一个讲光刻机的短视频。该视频号主是个大妈，夫妻俩加起来超过110岁，视频号内容主要是开着问界M9各地自驾游。一个年过半百退休大妈，突然拿着工信部的一个极简的目录来讲光刻机，讲...
全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。
这两天不少网友都在热议工信部披露的新款国产氟化氩光刻机光刻机的消息，一时间，各种关于国产光刻机大突破言论满天飞，甚至还有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。 其实，早在6月20日，工信部就曾发布了《首台（套）重...