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国产套刻8nm光刻机引争议 部分关键指标不如ASML 2006年推出的干式DUV光刻机XT 1450，所以总体差距在15—20年
日前，工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下简称“目录”）中显示，中国已攻克氟化氩光刻机，其中该目录中，公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm指标引发...
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标签：套刻
坎坷de卖菜仔
全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。
这两天不少网友都在热议工信部披露的新款国产氟化氩光刻机光刻机的消息，一时间，各种关于国产光刻机大突破言论满天飞，甚至还有人一看到“套刻≤8nm”就认为这是8nm光刻机，也是令人啼笑皆非。 其实，早在6月20日，工信部就曾发布了《首台（套）重...